電気電子研究開発
40年の業界第一級の業務経験に基づき、リソグラフィ、レジスト、微細加工用材料のトラブル対策や新技術・新材料開発、新規事業立案、特許取得に貢献致します。
1981年 京都大学工学部 石油化学科 卒業
1983年 京都大学大学院 工学研究科石油化学専攻 修士課程修了
1992年 大阪大学大学院 工学研究科工学 博士号取得
1983年 大手電機メーカー入社
研究所にて、紫外線・電子線を用いた半導体リソグラフィ、レジストプロセスの
開発に従事
1988年 米国企業に出向
KrFエキシマレーザを用いた半導体リソグラフィの米国大手半導体メーカーとの
共同開発に参画
1990年 元会社に復職
KrFエキシマレーザを用いた半導体リソグラフィ、レジスト、レジストプロセスの
開発および工場導入に貢献
1997年 ArFエキシマレーザを用いた半導体リソグラフィ、レジスト、レジストプロセスの
開発に貢献
1998年 半導体国家プロジェクトに出向
ArFエキシマレーザ、F2レーザを用いた半導体リソグラフィ、レジストプロセスの
開発にリーダーとして貢献
2000年 元会社に復職
ArF液浸、EUVを用いた半導体リソグラフィ、レジスト、レジストプロセスの
開発を先導
2008年 ArF液浸を用いた半導体リソグラフィ、レジストプロセスの工場導入に貢献
2009年 国立大学研究所に転職
特任教授としてEUVを用いたレジスト、レジストプロセスの研究開発に従事
2013年 招聘教授としてEUVを用いたレジスト、レジストプロセスの研究開発に従事
半導体リソグラフィ
半導体レジスト
微細加工用材料