電気電子化学・繊維研究開発申請・知財
電子部品製造において不良原因の本質に迫り、QCDの最善解を追求いたします。
1982年 北海道大学理学部化学第二学科卒業
1984年 北海道大学大学院理学研究科化学第二専攻修士課程修了
1984年 大手鉄鋼メーカー入社
磁性材料研究所配属 積層圧電セラミックスの要素技術開発
1987年 グループ会社生産技術研究所に実習派遣
AlN(窒化アルミニウム)多層基板の要素技術実習
1987年 半導体用封止用AlN部品開発
1988年 上記部品の顧客であるグループ会社デバイス開発センタに実習派遣
信頼性評価技術等実習、当該部品(製品)の生産立上
1991年 グループ会社へ圧電セラミックス部品の技術移管を担当
1992年 グループ会社からの依頼研究を受け、フェライト積層部品プロセス開発を担当
1994年 グループ会社工場内に研究所分室が置かれ、
携帯電話機用セラミック積層部品*のプロセス開発~量産化を担当
(*LTCC:Low Temperature Co-fired Ceramics 低温同時焼成セラミックス)
・原料・シート成形・印刷・積層・切断・焼成・外部電極形成等、
各工程の購入材選定・設備選定・製造条件を決定
・クリーンルームの仕様の決定・管理方法の立案実施
・解析・評価装置の選定・導入、立上を担当
・不良・不具合調査:上記解析手段等による原因調査・不良対策・品質改善
1995年 製品及び製造場所で、ISO9001及びISO14001を認証取得
2007年 知的財産担当を担当
主に軟磁性材料・部品(フェライト・金属薄帯)に係る特許出願~権利化を担当
2018年 技術士事務所開業
電子部品不良解析
QCD改善
発明発掘・明細書作成